電子部品 - FET

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概要

トランジスタは、バイポーラトランジスタ(BJT)、電界効果トランジスタ(FET)、絶縁ゲートトランジスタ(IGBT)の3つの種類がある。

バイポーラトランジスタ(BJT)は、NPN型とPNP型に分類される。
電界効果トランジスタ(FET)は、接合型FET(JFET)と金属酸化膜半導体FET(MOSFET)に分類される。
接合型FET(JFET)は、Nチャネル型とPチャネル型に分類される。
金属酸化膜半導体FET(MOSFET)は、エンハンスメント形とデプレッション形があり、それぞれ、Nチャネル型とPチャネル型に分類される。
絶縁ゲートトランジスタ(IGBT)は、Nチャネル型とPチャネル型に分類される。

トランジスタの種類を下図に示す。

ErectricParts Transistor FET IGBT 1.jpg


※補足
バイポーラトランジスタには、派生型として抵抗を内臓した抵抗内蔵型トランジスタ(デジタルトランジスタ)というものが存在する。


バイポーラトランジスタ(BJT)、MOSFET、IGBTの特徴

バイポーラトランジスタ(BJT)、金属酸化膜半導体FET(MOSFET)、絶縁ゲートトランジスタ(IGBT)の特徴を下図に示す。

バイポーラトランジスタ(BJT)は、電流駆動であるが、金属酸化膜半導体FET(MOSFET)、絶縁ゲートトランジスタ(IGBT)は電圧駆動である。
また、スイッチング速度は、バイポーラトランジスタ(BJT)が低速、金属酸化膜半導体FET(MOSFET)は高速である。
絶縁ゲートトランジスタ(IGBT)は比較的に高速であるが、MOSFETよりも劣っており、これがIGBTの欠点となっている。

ErectricParts Transistor FET IGBT 2.jpg



電界効果トランジスタ(FET)

電界効果トランジスタ(FET)には、接合型FET(JFET)と金属酸化膜半導体FET(MOSFET)の2種類ある。

電界効果トランジスタ(FET)にはゲート、ドレイン、ソースの3つの端子がある。
また、電界効果トランジスタ(FET)は電圧制御素子である。
ゲートの印加電圧によって、ドレイン-ソース間に流れるドレイン電流IDを制御する。


接合型FET(JFET)

接合型FET(JFET)とは

接合型FET(JFET)には、Nチャネル型とPチャネル型の2種類ある。
Nチャネル型は、ドレインとソースがN型半導体、ゲートがP型半導体、
Pチャネル型は、ドレインとソースがP型半導体、ゲートがN型半導体となっている。

接合型FET(JFET)には、ゲート、ドレイン、ソースの3つの端子がある。

※補足
接合型FET(JFET)は、Junction Field Effect Transistorの略である。

Nチャネル型JFET

Nチャネル型JFETとは、N型半導体がドレインとソースに接続されており、P型半導体がゲートに接続されている接合型FET(JFET)である。

ゲート端子に電圧を印加していない状態では、ドレインからソースに電流が流れるが、
ソースに対してゲート端子に負電圧を印加すると、ドレインからソースにドレイン電流IDが流れなくなる。

Nチャネル型JFETの動作原理

  • ゲート端子に電圧が印加されていない状態
    ドレイン-ソース間電圧VDSを印加すると、N型半導体の電子がドレイン側に移動する。
    すなわち、ドレインからソースにドレイン電流IDが流れる。


  • ソースに対してゲート端子に負電圧を印加している状態
    P型半導体の正孔がゲート側に引き寄せられ、P型半導体とN型半導体の間には空乏層ができる。
    この空乏層は、ゲートにかかる電圧によって変化して、空乏層が大きくなるとN型半導体の電子がドレイン側に移動できなくなり、ドレイン電流IDが流れなくなる。
ErectricParts Transistor FET IGBT 4.jpg


Pチャネル型JFET

Pチャネル型JFETとは、P型半導体がドレインとソースに接続されており、N型半導体がゲートに接続されている接合型FET(JFET)である。

ゲート端子に電圧を印加していない状態では、ソースからドレインに電流が流れるが、
ソースに対してゲート端子に正電圧を印加すると、ソースからドレインにドレイン電流IDが流れなくなる。

Pチャネル型JFETの動作原理については、Nチャネル型JFETの動作原理と同様に考えればよいため省略する。


金属酸化膜半導体FET(MOSFET)

金属酸化膜半導体FET(MOSFET)とは

金属酸化膜半導体FET(MOSFET)には、Nチャネル型とPチャネル型の2種類ある。
Nチャネル型はソースとドレインの間にNチャネル領域を有しており、Pチャネル型はソースとドレインの間にPチャネル領域を有している。

金属酸化膜半導体FET(MOSFET)には、ゲート、ドレイン、ソースの3つの端子がある。
また、金属酸化膜半導体FET(MOSFET)には、エンハンスメント形とデプレッション形がある。

※補足
金属酸化膜半導体FET(MOSFET)は、Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistorの略である。

Nチャネル型の方が性能も良く、回路的にも使用しやすいので、市場で使用されるMOSFETの大半がNチャネル型となっている。

MOSFETのデータシートには、オン抵抗というパラメータがある。
このオン抵抗は、特に大電力を扱う場合に重要な特性になるが、バイポーラトランジスタ(BJT)には、オン抵抗のパラメータは無い。
バイポーラトランジスタのオン抵抗にあたるのは、コレクタ飽和電圧VCE(sat)となる。

コレクタ飽和電圧VCE(sat)とは、トランジスタが動作している時において、既定のコレクタ電流ICが流れた時の電圧降下であり、
コレクタ電流ICと電圧降下からバイポーラトランジスタ(BJT)のオン抵抗を求めることができる。

エンハンスメント形とデプレッション形の違い

  • エンハンスメント形
    ゲートとソースの電圧が等しい時に、ドレイン電流IDが流れないものである。
    回路記号は下図の赤丸で示したように少し隙間がある。

  • デプレッション形
    ゲートとソースの電圧が等しい時に、ドレイン電流IDが流れるものである。
    回路記号は、エンハンスメント形にあった隙間がない。
ErectricParts Transistor FET IGBT 5.jpg


Nチャネル型MOSFET(エンハンスメント形)

Nチャネル型MOSFETは、ドレインとソースの間にNチャネル領域を有している金属酸化膜半導体FET(MOSFET)である。

ソースに対してゲート端子に正電圧を印加すると、ドレインからソースにドレイン電流IDが流れるようになる。

Nチャネル型MOSFET(エンハンスメント形)の動作原理

  • ゲート-ソース間に電圧が印加されていない状態
    ドレイン-ソース間電圧VDSを印加しても、ドレインとソースの間はNPN構造となっているため、ドレインからソースにドレイン電流IDが流れない。

  • ソースに対してゲート端子に正電圧を印加している状態
    ゲートの絶縁膜直下にP型半導体内の電子が引き寄せられ、電子よるNチャネル領域が形成される。
    その結果、ドレイン-ソース間はN型半導体のみになり、N型半導体内の電子が移動できるようになり、ドレインからソースにドレイン電流IDが流れる。
ErectricParts Transistor FET IGBT 6.jpg


Pチャネル型MOFFET(エンハンスメント形)

Pチャネル型MOSFETは、ドレインとソースの間にPチャネル領域を有している金属酸化膜半導体FET(MOSFET)である。

ソースに対してゲート端子に負電圧を印加すると、ソースからドレインにドレイン電流IDが流れるようになる。

Pチャネル型MOFFET(エンハンスメント形)の動作原理については、Nチャネル型MOFFET(エンハンスメント形)の動作原理と同様に考えればよいため省略する。